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硅片表面污染及清洗機理
在半導體材料的制備過程中，每一道工序都涉及到清洗，而且清洗的好壞直接影響下一道工序，甚至影響器件的成品率和可靠性。
清洗光學鏡片
在高質量光學元件的生產中, 對其表面的精細清洗是重要的和必不可少的. 微粒,膜層或水的任何痕跡會造成光學元件表面缺陷,造成薄膜鍍層的粘合不良和成品的報廢.
OLED器件清洗及其它工藝流程失效模式分析
OLED 制備過程中的關鍵技術 1、ITO基片的清洗和預處理 2、陰極隔離柱制備 3、有機功能薄膜和金屬電極的制備 4、彩色化技術 5、封裝技術
電路板清洗技術
在PCB制程中，電路板新一代清洗技術主要有以下四種：　　1、水清洗技術　　水清洗技術是今后清洗技術的發(fā)展方向，須設置純凈水源和排放水處理車間。它以水作為清洗介質，并在水中添加表面活性劑、助劑、緩蝕劑、螯合劑等形成一系列以水為基的清洗劑?？梢猿ニ軇ㄖ竸樗苄裕┖头菢O性污染物。其清洗工藝特點是：　　1）安全性好，不燃燒、不爆炸，基本無毒；
電鍍生產線的超聲清洗
電鍍之前的超聲清洗能省去人工擦洗和把浸漬的時間減到最少限度, 從而顯著節(jié)省了時間和勞力. 超聲攪動能從各種金屬和塑料零件上徹底快速清除掉磨光劑, 車間灰塵和其他污垢. 超聲能到達清洗件的各種縫隙, 盲孔和其他難以進入的地方, 結果清洗出更潔凈的部件.
超聲頻率的選擇
隨著科技的進步，精密清洗的工件越來越精細，清潔度要求也越來越高。在精密清洗的應用上（如線路板、二極管、液晶體、半導體等）使用傳統(tǒng)的頻率（20~30KHz），我們會發(fā)現(xiàn)不但沒法達到清洗的要求，而且還可能造成工件的損傷。最典型的例子就是關于軍用電子產品，業(yè)已明文規(guī)定不允許使用傳統(tǒng)的頻率（20~30KHz）的超聲波清洗。
超聲波清洗基礎
超聲波清洗是基于空化作用，即在清洗液中無數(shù)氣泡快速形成并迅速內爆。由此產生的沖擊將浸沒在清洗液中的工件內外表面的污物剝落下來。隨著超聲頻率的提高，氣泡數(shù)量增加而爆破沖擊力減弱，因此，高頻超聲特別適用于小顆粒污垢的清洗而不破壞其工件表面。
混合電路接頭清洗
無論是否引進超聲，常規(guī)溶劑清洗的方式不適用于清洗焊錫后的混合電路接頭上的焊料殘渣，因為清洗溶劑將會削弱超聲空化泡的產生。在水中超聲空化作用則大大增強，故采用水性清洗系統(tǒng)可解決混合電路接頭上的焊料殘渣的清洗問題。

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